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新品上市 磁控離子濺射儀

更新時間:2025-01-23      點擊次數(shù):105

磁控離子濺射儀


產(chǎn)品介紹:

磁控離子濺射儀或是噴金儀是一種利用真空鍍膜技術開發(fā)研制成高科技產(chǎn)品,作為掃描電鏡所需要的一款制樣儀器,可以配合掃描電子顯微鏡很方便的觀測試樣的微觀形貌,從而提高試樣的導電性和導熱性。磁控離子濺射儀為全閉環(huán)真空設計配有全量程皮拉尼真空計等多個傳感器實時監(jiān)控運行狀態(tài),保證儀器安全穩(wěn)定運行。自動磁控離子濺射儀采用高性能旋真空泵快速獲得<1Pa的真空環(huán)境,高精度的濺射電源采用恒流控制來保證高精細的膜層質量。同時平面磁控測射陰極減少等離子體對試樣表面的轟擊和熱效應,高性能的平面磁控濺射陰極可實現(xiàn)多種靶材的選擇 (Au、Pt、Ag、Pd等),高精度的納米涂層為納米級別,可滿足現(xiàn)代分析實驗要求??捎糜谥苽涓哔|量的金屬薄膜、半導體薄膜、介電、絕緣材料薄膜以及復合薄膜、多層異質結等。

 

應用領域:

光學領域:中頻閉場非平衡磁控濺射技術應用于光學薄膜(如減反射膜)、低輻射玻璃和透明導電玻璃;

微電子領域:用于沉積具有吸收、透射、反射、折射、偏振等功能的薄膜,如低溫下沉積氮化硅增透膜以提高太陽能電池的光電轉換效率。

高溫超導薄膜、鐵電薄膜、巨磁阻薄膜等領域:磁控濺射技術在這些領域的研究中發(fā)揮著重要作用;

機械加工行業(yè):表面功能膜、超硬膜和自潤滑膜的表面沉積技術可有效提高表面硬度、復合韌性、耐磨性和高溫化學穩(wěn)定性,從而提高涂層產(chǎn)品的使用壽命。


產(chǎn)品優(yōu)勢:

1、全自動操作,簡單易用,非常適用鎢燈絲、臺式掃描電鏡等

l濺射電流自動調整?設定濺射電流后,系統(tǒng)自動調節(jié)真空度,從而達到設定的濺射電流,調整時間<5s,波動范圍<5%;無需按“實驗"鍵調整濺射電流、無需操作“進氣閥"。

l濺射時間自動記憶?同類樣品一次設定即可;

l參數(shù)改變自動調整?濺射過程中可以隨時調整濺射電流和濺射時長,系統(tǒng)自動計算疊加,無需終止濺射過程;

l工作完成自動放氣;

l樣品臺高度調節(jié)1秒完成;

l濺射過程可以利用曲線顯示,清晰直觀。

2、軟硬件互鎖,防誤操作,安全可靠

l真空度高于100Pa,啟動真空保護,無法濺射;

l濺射電流高于50mA,停止濺射過程;

l真空泵工作時,系統(tǒng)無法進行放氣操作;

 


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